激光直写光刻机
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
苏州苏大维格科技集团股份有限公司 -
当前状态
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管理员
赵士燕,马雨飞 15914419596 -
放置地点
珠海校区瀚林2号
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
激光直写光刻机
资产编号
2021008691
型号
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
规格
基于DMD空间光调制器的激光直写，最小结构尺寸0.5um，具有3个不同分辨率物镜10X，20X，50
产地
中国
厂家
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
所属品牌
Microlab
出产日期
购买日期
2021-04-07
所属单位
微电子科学与技术学院
使用性质
科研
所属分类
GZYQ24,XSB24,GZYQ22,22FB
资产负责人
马雨飞
联系电话
15914419596
联系邮箱
mayf29@mail.sysu.edu.cn
放置地点
珠海校区瀚林2号
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1.无掩模直写光刻机设备采用DMD实现数字投影，通过物镜精缩图形，无需物理掩模版。直写光刻机能够实现最小结构尺寸为1微米的光刻。直写光刻机集成光学显微系统，具有10X、20X、50X不同分辨率。直写光刻机能够支持最大100mm*100mm幅面的光刻。支持正胶负胶的光刻。
2.支持基底厚度1－15mm，支持Z轴AutoFocus基底翘曲100um；支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光等多种曝光模式；书写速度100mm2/min@1um；对准套刻精度500nm。
2.支持基底厚度1－15mm，支持Z轴AutoFocus基底翘曲100um；支持扫描曝光，灰度曝光，拖曳曝光等多种曝光模式；书写速度100mm2/min@1um；对准套刻精度500nm。
主要功能及特色
Microlab是一个专门为微图形结构制造而开发的拥有步进模式、矢量模式和DXF模式的直写系统，Microlab拥有四个部分的控制系统，微米级的分辨率，位置伺服对焦系统，该设备具有较高效率的微观光刻技术能力。
样本检测注意事项
Microlab是一个专门为微图形结构制造而开发的拥有步进模式、矢量模式和DXF模式的直写系统，Microlab拥有四个部分的控制系统，微米级的分辨率，位置伺服对焦系统，该设备具有较高效率的微观光刻技术能力。
设备使用相关说明
400元/小时
备注
微观结构制造
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