光刻机
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
SUSS MA/BA6 Gen4 -
当前状态
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管理员
赵士燕,马雨飞 15914419596 -
放置地点
珠海校区瀚林2号
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
光刻机
资产编号
2022062718
型号
SUSS MA/BA6 Gen4
规格
主机/背面及正面对准系统/曝光系统及汞灯/抗衍射光学微透镜系统/晶圆真空吸盘/掩模版架
产地
德国
厂家
SUSS MicroTec Lithography
所属品牌
SUSS MA/BA6 Gen4
出产日期
购买日期
2022-11-07
所属单位
微电子科学与技术学院
使用性质
科研
所属分类
XSB24,GZYQ24,23FB
资产负责人
马雨飞
联系电话
15914419596
联系邮箱
mayf29@mail.sysu.edu.cn
放置地点
珠海校区瀚林2号
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1.曝光范围：150mm圆形 ；支持晶圆厚度：5.5mm, 晶圆厚度在系统中自动设定调节，无需手调；
2.曝光波长：350-450nm；曝光灯：350瓦汞灯；曝光光强：20mW/cm² at 365nm (Sensor 365nm)；50mW/cm² at 365+405+435nm (Sensor 405nm)；
3.分辨率：0.8um（真空接触，光刻胶厚度≤1微米时，等间距图形Line/Space=1:1,150mm范围内5点）；
4.正面套刻精度： ±0.5um；背面套刻精度：±1.0um。
2.曝光波长：350-450nm；曝光灯：350瓦汞灯；曝光光强：20mW/cm² at 365nm (Sensor 365nm)；50mW/cm² at 365+405+435nm (Sensor 405nm)；
3.分辨率：0.8um（真空接触，光刻胶厚度≤1微米时，等间距图形Line/Space=1:1,150mm范围内5点）；
4.正面套刻精度： ±0.5um；背面套刻精度：±1.0um。
主要功能及特色
支持软接触、硬接触、接近和真空四种模式。
样本检测注意事项
支持软接触、硬接触、接近和真空四种模式。
设备使用相关说明
校外540元/小时，校内270元/小时
备注
1、使用需提前预约； 2、需由设备管理员操作，未经许可不得私自操作设备。
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公告
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